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感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法 

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申请/专利权人:富士胶片株式会社

摘要:本发明能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物,该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,树脂具有由通式B‑1表示的重复单元。

主权项:1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其包含:树脂,通过酸的作用而极性增大;及化合物,通过光化射线或放射线的照射产生酸,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,所述树脂具有由通式B-1表示的重复单元, 在通式B-1中,X表示-CO-、-SO-或-SO2-,R1~R3分别独立地表示氢原子或有机基团,R2及R3中的至少一者为具有氟原子的吸电子基团,L表示具有杂原子作为环元素原子的2价的连接基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 富士胶片株式会社 感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法

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