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真空溅射镀膜系统及真空溅射镀膜方法 

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申请/专利权人:乐金显示光电科技(中国)有限公司

摘要:本发明涉及一种真空溅射镀膜系统及真空溅射镀膜方法。其中,真空溅射镀膜系统包括:依次连接的第一过渡腔室、第二过渡腔室、第一真空溅射镀膜腔室、第二真空溅射镀膜腔室、第三过渡腔室、第四过渡腔室,相邻腔室间设有一密封门,第二过渡腔室、第一真空溅射镀膜腔室、第二真空溅射镀膜腔室和第三过渡腔室均处于真空状态,第一过渡腔室和第四过渡腔室分别在真空状态和大气状态进行切换;氮气输送系统、抽真空系统以及管路连接控制系统,分别与第一过渡腔室和第四过渡腔室连接;管路连接控制系统用于选择性平衡第一过渡腔室和第四过渡腔室的气体压力。本发明可以有效提高玻璃基板真空溅射镀膜效率,并能提高氮气利用率,降低能耗和成本。

主权项:1.一种真空溅射镀膜系统,其特征在于,包括:依次连接的第一过渡腔室、第二过渡腔室、第一真空溅射镀膜腔室、第二真空溅射镀膜腔室、第三过渡腔室和第四过渡腔室,相邻腔室间设有一密封门,所述第二过渡腔室、所述第一真空溅射镀膜腔室、所述第二真空溅射镀膜腔室和所述第三过渡腔室均处于真空状态,所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室分别在真空状态和与外界大气压一致的大气状态之间进行切换,当所述第一过渡腔室处于真空状态时,所述第一过渡腔室、所述第二过渡腔室和所述第一真空溅射镀膜腔室的真空度依次增大;当所述第四过渡腔室处于真空状态时,所述第二真空溅射镀膜腔室、所述第三过渡腔室、所述第四过渡腔室的真空度依次减小;氮气输送系统、抽真空系统以及管路连接控制系统,分别与所述第一过渡腔室和所述第四过渡腔室连接;当所述第一过渡腔室需要从真空状态切换至大气状态、且所述第四过渡腔室需要从大气状态切换至真空状态时,所述管路连接控制系统可选择性控制所述第四过渡腔室内的气体输送至所述第一过渡腔室内;当所述第一过渡腔室需要从大气状态切换至真空状态、且所述第四过渡腔室需要从真空状态切换至大气状态时,所述管路连接控制系统可选择性控制所述第一过渡腔室内的气体输送至所述第四过渡腔室内。

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