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申请/专利权人：金耀真空设备(中山)有限公司
摘要：本发明公开了一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有平面阴极组件，以及设置于平面阴极组件上侧带动基材运动的基材滚动支架，镀膜腔体与平面阴极组件之间设有靶基距调节组件，平面阴极组件上侧面上设有靶材，平面阴极组件内设有进水管以及位于进水管上侧设有与靶材相对设置的磁轭，磁轭上侧面设有磁铁，进水管与磁轭之间设有磁基距调节组件，调节靶基距实现根据不同的靶材或基材快速调节出最符合生产工艺要求的靶基距，调节磁基距保证磁铁与靶材两者长度方向上的平行度，同时在应用不同材质或不同厚度的靶材镀膜时，也能调节磁基距达到最佳镀膜磁场要求。
主权项：1.一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体1，镀膜腔体1内设有腔室2，腔室2内设有沿长度方向设置用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的平面阴极组件3，以及设置于平面阴极组件3上侧用于带动基材4运动的基材滚动支架5，镀膜腔体1与平面阴极组件3之间设有用于调节平面阴极组件3与基材4之间距离的靶基距调节组件6，平面阴极组件3上侧面上设有靶材7，平面阴极组件3内设有进水管31以及位于进水管31上侧设有与靶材7相对设置的磁轭32，磁轭32上侧面设有磁铁33，进水管31与磁轭32之间设有多个用于调节磁铁33与靶材7之间距离的磁基距调节组件8，平面阴极组件3包括有两端封闭的凵型防护板35，凵型防护板35内设有方管34，方管34两端设有方管端盖36，进水管31固定在两侧方管端盖36之间，凵型防护板35与方管34之间设有绝缘垫37，方管34顶面上设有散热板38，靶材7设置在散热板38上且与凵型防护板35上端开口相对设置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 金耀真空设备(中山)有限公司 一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备
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