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申请/专利权人：三星SDI株式会社
摘要：本公开提供一种硅酮系粘合性保护膜及包括所述硅酮系粘合性保护膜的光学构件。硅酮系粘合性保护膜由用于硅酮系粘合性保护膜的组合物形成，所述用于硅酮系粘合性保护膜的组合物包括硅酮树脂、交联剂及固化催化剂。硅酮系粘合性保护膜在25℃下相对于玻璃板具有3克力英寸或小于3克力英寸的剥离强度，且在25℃下具有0.5兆帕到7兆帕的模量。本公开的硅酮系粘合性保护膜具有低剥离强度、低剥离强度变化速率及良好润湿性质的。
主权项：1.一种由用于硅酮系粘合性保护膜的组合物形成的硅酮系粘合性保护膜，所述组合物包含硅酮树脂、交联剂及固化催化剂，所述硅酮系粘合性保护膜在25℃下相对于玻璃板具有3克力英寸或小于3克力英寸的剥离强度，且在25℃下具有0.5兆帕到7兆帕的模量，其中所述硅酮树脂包括第一硅酮树脂与第二硅酮树脂的混合物，相对于100重量份的所述混合物，所述第一硅酮树脂与所述第二硅酮树脂以30:70到70:30的重量份比存在，其中所述第一硅酮树脂由式1表示：[式1]R3SiO124-pR2SiOmRR1SiOnR1R2SiO12p，其中R是羟基、C1至C10烷基或C2至C10烯基，R1是C2至C10烯基，p的平均范围介于1到4，m的平均范围介于100到10,000，n平均为0或平均大于m，且m+n的平均范围介于100到10,000，其中用于硅酮系粘合性保护膜的所述组合物不含由R3R42SiO12及SiO42单元构成的硅酮树脂，其中R3是C1至C10烷基、C2至C10烯基、C6至C10芳基或C6至C10羟基，且R4是C1至C10烷基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星SDI株式会社 硅酮系粘合性保护膜及包括其的光学构件
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