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申请/专利权人：研微(江苏)半导体科技有限公司

摘要：本申请提供了一种用于等离子体反应室的基座调整装置，包括：具有水平度调节板和多个水平度调节件的水平度调节机构，多个水平度调节件被配置为调节基座的水平度；包括第一方向调节组件和第二方向调节组件的对中调节机构，第一方向调节组件被配置为沿第一方向调节基座的位置，第二方向调节组件被配置为沿第二方向调节基座的位置；与第二方向调节组件在第二方向上滑动连接的支撑机构，支撑机构被配置为支撑对中调节机构和水平度调节机构；锁紧机构，被配置为锁紧对中调节机构和水平度调节机构。本申请的基座调整装置能够实现对基座的水平度和对中度的快速、精确调节，同时能够提高等离子体反应室射频电流的回流稳定性和重复性，并且还有助于提高锁紧后的基座水平度与锁紧前的基座水平度的一致性。

主权项：1.一种用于等离子体反应室的基座调整装置，所述基座调整装置连接于所述等离子体反应室的基座，所述基座的下方设置有基座支撑轴，其特征在于，包括：水平度调节机构（110），包括水平度调节板（111）和多个水平度调节件（112），每个所述水平度调节件（112）与所述水平度调节板（111）固定连接，所述基座支撑轴（120）的一端与所述基座（130）固定连接，另一端与所述水平度调节板（111）固定连接，所述多个水平度调节件（112）被配置为调节所述基座（130）的水平度；对中调节机构（140），位于所述水平度调节机构（110）的下方，包括第一方向调节组件（141）和第二方向调节组件（142），所述第一方向调节组件（141）与所述第二方向调节组件（142）在第一方向上滑动连接，所述第一方向调节组件（141）被配置为沿所述第一方向调节所述基座（130）的位置，所述第二方向调节组件（142）被配置为沿所述第二方向调节所述基座（130）的位置，所述第一方向和所述第二方向在设定平面呈夹角分布；支撑机构（150），位于所述第二方向调节组件（142）的下方，所述第二方向调节组件（142）与所述支撑机构（150）在所述第二方向上滑动连接，所述支撑机构（150）被配置为支撑所述对中调节机构（140）和所述水平度调节机构（110）；以及锁紧机构，被配置为在垂直于所述设定平面的方向上将所述对中调节机构（140）锁紧至所述支撑机构（150），以及将所述水平度调节机构（110）锁紧至所述对中调节机构（140）；控制器，所述控制器被配置为：获得所述基座（130）的当前水平度；判断所述当前水平度是否满足预设水平度，若判断结果为否，则调节所述多个水平度调节件（112）以使所述基座（130）的水平度满足所述预设水平度；当所述水平度调节件（112）为微分头机构（112a）时，在所述基座（130）的水平度满足所述预设水平度时，所述控制器将每个所述微分头机构（112a）的当前读数存储并标记为标准读数。

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