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申请/专利权人：希森美康株式会社

摘要：本发明提供一种样本分析装置和样本分析方法。本发明针对数个测定项目进行样本分析的样本分析装置具备：测定部，连续进行样本测定，并进行精度管理测定，其中，样本测定对混合样本和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定，精度管理测定对混合精度管理物质和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定；控制部，从包括从第1精度管理、第2精度管理和第3精度管理选择的至少两种精度管理在内的精度管理群按每项测定项目设定精度管理，并根据设定的精度管理控制测定部，其中，第1精度管理在一定时刻执行精度管理测定，第2精度管理在样本测定每进行一定测定次数时执行精度管理测定，第3精度管理每隔一定时间间隔执行精度管理测定。

主权项：1.一种样本分析装置，其是针对数个测定项目进行样本分析的样本分析装置，包括：测定部，进行样本测定，并进行精度管理测定，其中，样本测定对混合所述样本和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定，精度管理测定对混合精度管理物质和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定；控制部，从包括从第1精度管理、第2精度管理和第3精度管理选择的至少两种精度管理在内的精度管理群按每项测定项目设定精度管理，并根据设定的精度管理控制所述测定部，其中，第1精度管理在一定时刻执行所述精度管理测定，第2精度管理在所述样本测定每进行预先设定的测定次数时执行所述精度管理测定，第3精度管理每隔预先设定的时间间隔执行所述精度管理测定；在设定了所述第1精度管理、所述第2精度管理和所述第3精度管理中的任意一个时，所述测定部将所述精度管理物质和现在使用的试剂容器中收纳的试剂混合制备测定试样，并进行所述精度管理测定；当所述控制部设定了所述第2精度管理时，在基于所述第2精度管理执行所述精度管理测定时，所述控制部对之后的所述样本测定的次数进行计数，在计数的所述样本测定的次数达到预先设定的所述测定次数时，所述控制部控制所述测定部对同一测定项目再次执行所述精度管理测定；当所述控制部设定了所述第3精度管理时，在基于所述第3精度管理执行所述精度管理测定时，所述控制部对之后的时间经过进行计时，在计时的所述时间经过达到预先设定的所述时间间隔时，所述控制部控制所述测定部对同一测定项目再次执行所述精度管理测定。

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百度查询： 希森美康株式会社 样本分析装置和样本分析方法