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一种Si3N4-SiC-Zr2CN复相陶瓷吸波材料及其制备方法 

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申请/专利权人:中国科学院上海硅酸盐研究所

摘要:本发明涉及一种Si3N4‑SiC‑Zr2CN复相陶瓷吸波材料及其制备方法。所述Si3N4‑SiC‑Zr2CN复相陶瓷吸波材料包括:Si3N4基体透波相与SiC‑Zr2CN吸波相;其中,所述Si3N4基体透波相的含量为40~70wt%,SiC‑Zr2CN吸波相的含量为30~60wt%,Zr2CN的含量为1~25wt%,优选为2~20wt%。

主权项:1.一种Si3N4-SiC-Zr2CN复相陶瓷吸波材料,其特征在于,包括:Si3N4基体透波相与SiC-Zr2CN吸波相;其中,所述Si3N4基体透波相的含量为40~70wt%,SiC-Zr2CN吸波相的含量为30~60wt%,Zr2CN的含量为1~25wt%;所述Si3N4-SiC-Zr2CN复相陶瓷吸波材料的制备方法包括:将原料粉体SiC粉、Si粉和ZrC粉混合得到SiC-Si-ZrC混合陶瓷粉体,经成型、负压脱蜡,两步原位氮化反应烧结,得到所述Si3N4-SiC-Zr2CN复相陶瓷吸波材料;所述SiC粉与Si粉的质量比为1.0~1.3,所述ZrC粉加入量占SiC-Si陶瓷粉体总质量的3~25wt%;所述两步原位氮化反应烧结的工艺为:先以3~7℃min的速率升温至1000~1200℃,保温1~3h;再以1~3℃min的速率升温至1300~1500℃,保温1~3h;随后以3~7℃min的速率降至室温;烧结气氛为高纯氮气,其中O2≤0.001%。

全文数据:

权利要求:

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