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等离子体处理装置及边缘环的更换方法 

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申请/专利权人:夏泰鑫半导体(青岛)有限公司

摘要:一种等离子体处理装置,包括:静电卡盘,用于支撑待处理基板;基座环,围绕所述静电卡盘设置;边缘环,位于所述基座环上并围绕所述待处理基板设置;升降结构,包括升降销及驱动件,所述升降销可活动地穿过所述基座环并对应所述边缘环,所述驱动件连接所述升降销以驱动所述升降销升降,从而带动所述边缘环升降;传感器,设置于所述升降销与所述驱动件之间,以在所述边缘环升起后测量所述边缘环的重量。本发明还提供一种应用上述等离子体处理装置的边缘环的更换方法。

主权项:1.一种等离子体处理装置,包括:静电卡盘,用于支撑待处理基板;基座环,围绕所述静电卡盘设置;边缘环,位于所述基座环上并围绕所述待处理基板设置;升降结构,包括升降销及驱动件,所述升降销可活动地穿过所述基座环并对应所述边缘环,所述驱动件连接所述升降销以驱动所述升降销升降,从而带动所述边缘环升降,所述等离子体处理装置包括至少两个升降销,且所述至少两个升降销为一体成型设计;其特征在于,所述等离子体处理装置还包括:传感器,设置于所述升降销与所述驱动件之间,以在所述边缘环升起后测量所述边缘环的重量。

全文数据:

权利要求:

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