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小空间真空设备双向遮挡机构 

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申请/专利权人:大连威钛克纳米科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种小空间真空设备双向遮挡机构,涉及真空溅射镀膜技术领域,包括真空室侧壁、溅射源、遮挡机构;遮挡机构包括旋转轴杆、旋转支杆、挡板、U型支架、旋转气缸、联轴器;本实用新型的应用可解决在真空镀膜设备的空间较小的真空室内因空间小而无法安装正常的遮挡机构;本实用新型提供的遮挡机构可实现在同一平面内旋转,可旋转到任意所需要的位置悬臂旋转时,遮挡板可保持原有状态即不会随着悬臂旋转而转动,会更进一步减少遮挡所需要的空间,更好的解决空间不足的问题。

主权项:1.一种小空间真空设备双向遮挡机构,其特征在于:包括小空间的真空室可安装溅射源的真空室侧壁1,所述真空室侧壁1的内侧壁设置有溅射源2,并且在所述溅射源2的前侧设置有遮挡机构3;所述遮挡机构3包括两组结构相同的遮挡结构,分别位于所述溅射源2两侧,一侧位于上部、另一侧位于下部,两组遮挡机构均包括贯穿所述真空室侧壁1的旋转轴杆31,所述旋转轴杆31位于所述真空室的一端通过螺栓设置有与之垂直的旋转支杆32,所述旋转支杆32的远离所述旋转轴杆31的一端在其远离所述真空室侧壁1的一侧设置有与之垂直的挡板安装轴33,所述挡板安装轴33上安装有可无阻碍转动的挡板34,并且在所述挡板安装轴33的顶端通过螺栓固定安装有挡片;所述旋转支杆32在所述真空室侧壁1的外侧套设设置有真空密封座35,并且在所述真空密封座35的末端设置有U型支架36,所述U型支架36水平安装,且其一侧直边与所述真空密封座35连接,另一侧直边外侧设置有旋转气缸37,所述旋转气缸37的旋转轴杆贯穿U型支架36并通过联轴器38与所述旋转轴杆31连接,所述U型支架36的连接板的外侧设置有气控换向阀39,并且所述气控换向阀39的与所述旋转气缸37连接。

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