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申请/专利权人：成都东凯芯半导体材料有限公司;四川东材科技集团股份有限公司
摘要：本发明公开了一种ArF光刻胶单体2‑甲基‑1‑苯基环戊酯‑2‑丙烯酸的制备方法，属于光刻胶单体化合物合成领域；该制备方法具体以1‑苯基环戊烷‑1‑醇和甲基丙烯酸类化合物酸、酸酐或酰氯为反应原料，以碱性化合物为催化剂，在加入阻聚剂的条件下，在溶剂中，于0～80℃下进行酯化反应得到2‑甲基‑1‑苯基环戊酯‑2‑丙烯酸。本发明是对该光刻胶单体合成及纯化的首次报道。本发明的制备方法转化率高，纯化工艺简单，反应液经过酸洗、碱洗、浓缩和减压蒸馏即可得到纯度98％以上的产品；在反应和蒸馏时加入阻聚剂可以有效减少产品的聚合，提高收率；其中反应溶剂可以循环使用，进一步节约了生产成本。
主权项：1.一种ArF光刻胶单体2-甲基-1-苯基环戊酯-2-丙烯酸的制备方法，其特征在于，以1-苯基环戊烷-1-醇及甲基丙烯酸类化合物为反应原料，在对应的溶剂体系下，碱催化条件下反应得到2-甲基-1-苯基环戊酯-2-丙烯酸；化学反应方程式如下： 其中，X为-OH、或-Cl。
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