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申请/专利权人：深圳金美新材料科技有限公司
摘要：本实用新型公开了导电薄膜生产领域中的一种镀膜实验用真空镀膜设备，包括真空镀膜壳体，真空镀膜壳体内部设有蒸发组件，蒸发组件的上方设有薄膜载体组件，薄膜载体组件包括测试台，且测试台上设有至少三个用于贴附薄膜的测试面；蒸发组件的底部设有升降组件，升降组件带动蒸发组件靠近或者远离测试台，以调整蒸发组件与测试面之间的距离。解决了利用现有的真空镀膜设备无法同时改变蒸发源与薄膜之间的距离和镀膜时长进行制作镀膜测试样品问题，其可以同时改变蒸发组件与薄膜之间的距离和镀膜时长进行制作镀膜测试样品，得到不同厚度的镀膜测试样品，从而对镀膜测试样品的膜厚进行测验测试来对真空镀膜工艺参数进行调整，减少镀膜成品的不良率。
主权项：1.一种镀膜实验用真空镀膜设备，其特征在于，包括真空镀膜壳体，所述真空镀膜壳体内部设有蒸发组件，所述蒸发组件的上方设有薄膜载体组件，所述薄膜载体组件包括测试台，且所述测试台上设有至少三个用于贴附所述薄膜的测试面；所述蒸发组件的底部设有升降组件，所述升降组件带动所述蒸发组件靠近或者远离所述测试台，以调整所述蒸发组件与所述测试面之间的距离。
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