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光敏三极管及其制备方法 

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申请/专利权人:苏州半导体总厂有限公司

摘要:本申请提供一种光敏三极管及其制备方法,管芯,管芯包括:N型轻掺杂外延层;P型轻掺杂区,位于N型轻掺杂外延层内;P型重掺杂区,位于P型轻掺杂区的外围;N型重掺杂区,位于P型轻掺杂区内,N型重掺杂区为光敏三极管的发射区。上述光敏三极管中,在P型轻掺杂区外围形成有P型重掺杂区,可以大大降低表面态对光敏三极管的影响,可以显著降低集电极与发射区之间的漏电流。

主权项:1.一种光敏三极管,其特征在于,包括管芯,所述管芯包括:外延片,包括N型重掺杂基底及位于所述N型重掺杂基底上表面的N型轻掺杂外延层,所述外延片作为所述光敏三极管的集电极;P型重掺杂区,位于P型轻掺杂区的外围;P型轻掺杂区,位于所述N型轻掺杂外延层内,所述P型重掺杂区与所述P型轻掺杂区共同构成所述光敏三极管的基区;N型重掺杂区,位于所述P型轻掺杂区内;所述N型重掺杂区为所述光敏三极管的发射区;所述P型重掺杂区的面积大于所述P型轻掺杂区的面积。

全文数据:

权利要求:

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