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申请/专利权人：华虹半导体(无锡)有限公司

摘要：一种光学邻近修正方法，包括：提供初始图形，初始图形具有垂直的第一部和第二部，第一部具有相平行的第一外边和第一内边；根据曝光参量获取最佳分段长度范围；在最佳分段长度范围内根据采样步长获取若干采样长度；对第一外边和第一内边进行分段处理，获取第一边缘段、第二边缘段和若干中间段；采用若干采样长度对第一边缘段、第二边缘段和中间段的进行全排列组合赋值，获取初始图形对应的若干种初始分割图形；获取对应的第一曝光图形；获取每条线段对应的放置边缘误差；根据每种放置边缘误差，获取分割图形。通过对初始版图进行了若干种的分割方案，并通过最终的筛选得到初始版图的最佳分段搭配，克服了经过修正曝光后的图形线端缩头严重的问题。

主权项：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供初始图形，所述初始图形具有相互垂直的第一部和第二部，所述第一部具有相互平行的第一外边和第一内边，以及连接所述第一外边和所述第一内边的第一端部边，所述第二部具有相互平行的第二外边和第二内边，以及连接所述第二外边和所述第二内边的第二端部边，所述第一内边与所述第二内边垂直连接，所述第一外边与所述第二外边垂直连接，所述第一外边具有第一长度尺寸，所述第一内边具有第二长度尺寸，且所述第一长度尺寸大于所述第二长度尺寸；根据曝光参量获取最佳分段长度范围；其中，所述曝光参量包括：数值孔径NA、曝光波长λ、以及光源参数σ；根据曝光参量获取最佳分段长度范围的方法包括：根据所述数值孔径NA、曝光波长λ、以及光源参数σ获取奈奎斯特值Nyquist，其中： 在所述最佳分段长度范围内根据采样步长获取若干采样长度，不同的所述采样长度间的最小差值为所述采样步长；对所述第一外边和所述第一内边进行分段处理，获取若干第一边缘段、若干第二边缘段以及若干中间段，所述第一外边包括所述第一边缘段、第二边缘段、以及位于所述第一边缘段和所述第二边缘段之间的若干中间段，所述第一内边包括所述第一边缘段、第二边缘段、以及位于所述第一边缘段和所述第二边缘段之间的若干中间段，所述第一外边的所述中间段数量大于所述第一内边的所述中间段数量；采用若干所述采样长度对所述第一边缘段、第二边缘段以及中间段的长度进行全排列组合赋值，获取所述初始图形对应的若干种初始分割图形；对每种所述初始分割图形进行若干次第一光学邻近修正及曝光处理，获取对应的第一曝光图形；根据每种所述初始分割图形及对应的所述第一曝光图形，获取对应所述第一端部边的端部放置边缘误差、所述第一边缘段的第一边缘放置误差、所述第二边缘段的第二放置边缘误差、以及所述中间段的中间放置边缘误差；根据每种对应的所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差、以及若干中间放置边缘误差，从若干所述初始分割图形获取分割图形；其中，根据每种对应的所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差、以及若干中间放置边缘误差，从若干所述初始分割图形获取分割图形的方法包括：获取每种对应的所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差、以及若干中间放置边缘误差的配比值；将最小配比值所对应的初始分割图形作为所述分割图形；获取每种对应的所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差、以及若干中间放置边缘误差的配比值的方法包括：根据均方根RMS公式，获取每种对应的所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差、以及若干中间放置边缘误差的配比值，其中： 其中，EPEi为所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差或若干中间放置边缘误差，Wi为所述端部放置边缘误差、第一边缘放置误差、第二放置边缘误差或若干中间放置边缘误差所对应的权重。

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