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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：一种化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。提供能够获得提高了形成图案时的分辨率且改善了LER、分辨率、图案忠实性和剂量裕度的抗蚀图案的化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组合物，其包含A淬灭剂和B基础聚合物，所述A淬灭剂包含下述式A1所示的鎓盐，所述B基础聚合物包含含有下述式B1所示的重复单元且因酸的作用而分解、在碱显影液中的溶解度增大的聚合物。
主权项：1.一种化学增幅正型抗蚀剂组合物，其包含A淬灭剂和B基础聚合物，所述A淬灭剂包含下述式A1所示的鎓盐，所述B基础聚合物包含含有下述式B1所示的重复单元且因酸的作用而分解、在碱显影液中的溶解度增大的聚合物， 式A1中，X为单键、-O-或-S-；R1和R2各自独立地为氢原子或碳原子数1～10的烃基，该烃基的一部分-CH2-任选被-O-或-C＝O-置换，另外，R1和R2任选相互键合并与它们所键合的碳原子一同形成环；X为单键或-S-时，R3为氢原子或碳原子数1～10的烃基，X为-O-时，R3为氢原子、除酸不稳定基团之外的碳原子数1～10的烃基或酸不稳定基团，该烃基的一部分或全部氢原子任选被卤素原子取代，该烃基的一部分-CH2-任选被-O-或-C＝O-置换，R1和R3任选相互键合并与它们所键合的原子及其间的原子一同形成环，其中，R3为酸不稳定基团之外的基团时，R1～R3中包含的碳原子数的上限为10；Z+为鎓阳离子， 式B1中，a1为0或1；a2为0～2的整数；a3为满足0≤a3≤5+2a2-a4的整数；a4为1～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11为卤素原子、任选被卤素原子取代的碳原子数1～6的饱和烃基、任选被卤素原子取代的碳原子数1～6的饱和烃氧基、或者任选被卤素原子取代的碳原子数2～8的饱和烃基羰氧基；A1为单键或碳原子数1～10的饱和亚烃基，该饱和亚烃基的-CH2-任选被-O-置换。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
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