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摘要：提供一种抗蚀剂面层组合物以及使用所述抗蚀剂面层组合物来形成图案的方法。所述抗蚀剂面层组合物包括共聚物以及溶剂，所述共聚物包含由化学式M‑1表示的第一结构单元、由化学式M‑2表示的第二结构单元及包括由化学式M‑3A、化学式M‑3B、化学式M‑3C及化学式M‑3D表示的结构单元中的至少一者的第三结构单元。

主权项：1.一种抗蚀剂面层组合物，包括：共聚物，包含：第一结构单元，由化学式M-1表示，第二结构单元，由化学式M-2表示，及第三结构单元，包括选自由化学式M-3A、化学式M-3B、化学式M-3C及化学式M-3D表示的结构单元的至少一者；以及溶剂： 其中，在化学式M-1及化学式M-2中，R1及R2各自独立地为氢或者经取代或未经取代的C1至C10烷基，L1及L2各自独立地为单键、经取代或未经取代的C1至C10亚烷基或其组合，X1是单键、O、S、SO、SO2、CO、COO、OCO、OCOO、NRa或其组合，其中Ra是氢、氘或C1至C10烷基，R7是氢、氟、羟基、经取代或未经取代的C1至C20烷基或其组合，R8各自独立地为氢或C＝ORb，Rb是经取代或未经取代的C1至C10烷基，R7、L1或L2中的至少一者包含氟及羟基，R9各自独立地为氢、卤素、羟基、经取代或未经取代的C1至C10烷基或其组合，且m1是1到4的整数， 其中，在化学式M-3A到化学式M-3D中，R3到R6各自独立地为氢或者经取代或未经取代的C1至C10烷基，R10及R11各自独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C20芳基、NRcRd或其组合，其中Rc及Rd各自独立地为氢、氘或C1至C10烷基，R12到R21各自独立地为氢、经取代或未经取代的C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C20芳基、NRcRd或其组合，其中Rc及Rd各自独立地为氢、氘或C1至C10烷基，L3到L9各自独立地为单键、经取代或未经取代的C1至C10亚烷基、经取代或未经取代的C6至C12亚芳基或其组合，X2及X5各自独立地为单键、O或S，X3及X4各自独立地为单键、COO、OCO或OCOO，X6是单键、O或CH2，n1是0或1的整数，n2是1到3的整数，且*是连接点。

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