Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

半导体结构及其形成方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

摘要:本发明提供一种半导体结构及其形成方法。半导体结构包括衬底、浮栅极、介电堆叠物、控制栅极及保护层。衬底包括主动区域及周边区域。浮栅极设置在衬底上。介电堆叠物设置在浮栅极上。控制栅极设置在介电堆叠物上。保护层设置在控制栅极上。其中,位于主动区域中的保护层具有阶梯状部分。

主权项:1.一种半导体结构,其特征在于,包括:一衬底,包括一主动区域及一周边区域;一浮栅极,设置在该衬底上;一介电堆叠物,设置在该浮栅极上;一控制栅极,设置在该介电堆叠物上;以及一保护层,设置在该控制栅极上;其中,位于该主动区域中的该保护层具有一阶梯状部分。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华邦电子股份有限公司 半导体结构及其形成方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。