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申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要：本发明涉及光学加工技术领域，尤其涉及一种光学加工稳定离散化计算驻留时间条件优化方法，获得光学加工初始参数，包括初始面形误差、去除函数以及抛光轨迹，使用矩阵法计算离散化后的卷积矩阵，以矩阵的最小条件数为目标，优化面形误差以及抛光轨迹的离散程度，最后重新获取离散化面形误差与抛光轨迹，计算最稳定的驻留时间。本发明提供的方法将以往光学加工驻留时间求解中没有考虑到的计算稳定性问题量化并提出最优化方法求得最佳离散参数，大大提升了计算的稳定性。
主权项：1.一种光学加工稳定离散化计算驻留时间条件优化方法，其特征在于：具体包括以下步骤：S1：根据待加工工件的面形尺寸设置面形参数，并根据所述面形参数定义面形参数向量；根据所述待加工工件的面形尺寸设置抛光轨迹，进而得到抛光轨迹参数；根据所述抛光轨迹参数定义轨迹参数向量；S2：对所述待加工工件的同材料的实验片进行单点加工，并测得去除函数；根据所述去除函数确定初始卷积矩阵；S3：确定最优化条件，并根据所述最优化条件分别得到最优面形参数向量、最优轨迹参数向量以及最终卷积矩阵；S4：通过干涉仪测量所述待加工工件的面形，获得所述待加工工件的面形误差，按照所述最优面形参数向量对所述面形误差进行面形插值，获得规整化后的稳定面形误差；S5：根据所述最优轨迹参数向量设置稳定抛光轨迹；S6：根据所述稳定面形误差、所述稳定抛光轨迹和所述最终卷积矩阵建立矩阵方程，并对所述矩阵方程进行求解，得到稳定驻留时间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光学加工稳定离散化计算驻留时间条件优化方法
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