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一种薄膜沉积设备用喷头 

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申请/专利权人:无锡金源半导体科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种薄膜沉积设备用喷头,包括进气连接管和喷淋板,喷淋板顶部内侧开设有安装槽,所述安装槽内固定连接有中间匀气板,且中间匀气板开设有多个匀气孔,所述进气连接管底部固定连接有多个连接轴,且连接轴底部固定连接有同一个分散盘,所述安装槽顶部固定连接有上盖,上盖顶部与进气连接管固定连接,所述喷淋板底部开设有多个喷淋孔,所述上盖内嵌接有热电偶,所述上盖和中间匀气板之间形成有第一腔室,喷淋板和中间匀气板之间形成有第二腔室。本实用新型避免反应气体加热的不均匀性以及喷出气体的不均匀性,提高薄膜沉积的效果。

主权项:1.一种薄膜沉积设备用喷头,包括进气连接管1和喷淋板3,喷淋板3顶部内侧开设有安装槽5,其特征在于,所述安装槽5内固定连接有中间匀气板6,且中间匀气板6开设有多个匀气孔7,所述进气连接管1底部固定连接有多个连接轴8,且连接轴8底部固定连接有同一个分散盘9。

全文数据:

权利要求:

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