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一种发光二极管的外延片及其制备方法 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本发明涉及半导体材料的技术领域,公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,所述外延片包括衬底,在所述衬底上依次层叠的缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、低温P型层、电子阻挡层和P型GaN层;所述多量子阱层具有V型坑结构;其中,所述低温P型层包括由下至上依次层叠的AlN层、Mg‑AlInGaN层和Mg‑InGaNAlGaN超晶格结构层。实施本发明,能够提高活化Mg浓度,提高空穴浓度,提高空穴注入效率,减少电子溢流效应,减少发光二极管漏电,提升发光二极管的发光效率和发光亮度。

主权项:1.一种发光二极管的外延片,其特征在于,包括衬底,在所述衬底上依次层叠的缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱层、低温P型层、电子阻挡层和P型GaN层;所述多量子阱层具有V型坑结构;其中,所述低温P型层包括由下至上依次层叠的AlN层、Mg-AlInGaN层和Mg-InGaNAlGaN超晶格结构层。

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