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抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法 

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申请/专利权人:三星SDI株式会社;三星电子株式会社

摘要:提供了一种抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法。抗蚀剂顶涂层组合物包含:共聚物,所述共聚物包括由化学式M‑1表示的第一结构单元和由化学式M‑2表示的第二结构单元;和溶剂。

主权项:1.一种抗蚀剂顶涂层组合物,包含共聚物,所述共聚物包括由化学式M-1表示的第一结构单元和由化学式M-2表示的第二结构单元;和溶剂: 在化学式M-1和M-2中,R1和R2各自独立地为氢或者取代或未取代的C1至C10烷基,L1和L2各自独立地为单键、取代或未取代的C1至C10亚烷基或它们的组合,X1是单键、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CO-、-C=OO-、-OC=O-、-OC=OO-、-NR’-或它们的组合,R’是氢、氘或者取代或未取代的C1至C10烷基,R4是氢、氟、羟基、取代或未取代的C1至C20烷基或它们的组合,R5是氢或C=OR7,R7是取代或未取代的C1至C10烷基,R4、L1和L2中的至少一个包含氟和羟基,每个R6独立地为氢、卤素、羟基、取代或未取代的C1至C10烷基或它们的组合,并且m1是1至4的整数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星SDI株式会社 三星电子株式会社 抗蚀剂顶涂层组合物和使用所述组合物形成图案的方法

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