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一种热控多波带锑化铟完美吸波体及其应用 

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申请/专利权人:郑州大学

摘要:本发明公开了一种热控多波带完美吸波体及其应用,整体结构自上而下由三层构成。上层是周期性排列的方括号锑化铟阵列,中间层是SiO2介质,下层是金属层。室温下,通过合理设定单元结构的几何参数可以同时实现3个完美吸收峰。本发明图形结构简单,完美吸收峰的个数可从2个自由调谐到5个。利用半导体锑化铟材料对温度的敏感特性,温度升高可使吸收峰整体表现出明显的红移。该结构具有较高的温度灵敏度(22GHzK),较小的半高宽FWHM(0.06THz)和较高的折射率灵敏度287GHzRIU。这种热控多波带锑化铟完美吸波体在热控滤波、热生物传感、热成像和探测等方面具有广泛的应用前景。

主权项:1.一种热控多波带锑化铟完美吸波体,其特征在于,包括从上到下依次排布的锑化铟图案层、二氧化硅中间介质层、金属基底层,所述锑化铟图案层由结构单元周期性排列构成,所述结构单元为方括号形状体,改变方括号形状体的参数以实现锑化铟完美吸收峰从2个自由调谐到5个,可改变参数包括左侧方括号形状体的侧边宽度w1、左侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w2、右侧方括号形状体的侧边宽度w3、右侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w4、方括号形状体内侧边到中心轴的距离d中的一个;左侧方括号形状体的侧边宽度w1=5μm~9μm,左侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w2=3μm~5μm,右侧方括号形状体的侧边宽度w3=5μm~9μm,右侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w4=3μm~5μm,方括号形状体内侧边到中心轴的距离d=5.4μm~7.4μm;锑化铟图案层的结构单元的左侧方括号形状体的侧边宽度w1、左侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w2、右侧方括号形状体的侧边宽度w3、右侧方括号形状体上下两边从内侧边凸出的宽度w4的参数设置为w1=w2=w3=w4=5μm,方括号形状体内侧边到中心轴的距离d=7.4μm以实现产生3个100%的完美吸收峰;所述结构单元沿x、y轴的周期Px=Py=34.5μm~35.5μm,方括号形状体外侧边的长度l1=14.9μm~15.1μm,方括号形状体的上下两边的宽度l2=4.9μm~5.1μm。

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