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对准装置、对准方法、及成膜装置 

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申请/专利权人:佳能特机株式会社

摘要:本发明提供一种能够实现基板与掩模的对准精度的提高的对准装置、对准方法及成膜装置。对准装置具备支承掩模16的掩模台33、支承基板27的静电吸盘25、以及以变更基板27与掩模16的相对位置的方式驱动静电吸盘25的磁力上浮台2,其特征在于,具备将掩模16朝向基板27吸引的吸引磁铁18,在通过吸引磁铁18吸引了掩模16的状态下,进行基于磁力上浮台2的驱动动作。

主权项:1.一种对准装置,具备:掩模支承构件,所述掩模支承构件支承掩模;基板支承构件,所述基板支承构件支承基板;及驱动构件,所述驱动构件驱动所述掩模支承构件及所述基板支承构件中的至少任一方,以变更所述基板与所述掩模的相对位置,所述对准装置的特征在于,所述对准装置具备将所述掩模朝向所述基板吸引的吸引构件,在通过所述吸引构件吸引了所述掩模的状态下,进行基于所述驱动构件的驱动动作。

全文数据:

权利要求:

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