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申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所
摘要：本公开提供一种双模式高分辨干涉光刻装置及方法，包括：前端光路模块，沿光路依次包括激光光源、调节镜组和棱镜，激光光源产生的光经调节镜组的分束调节形成至少两束相干光，相干光垂直进入棱镜、经棱镜斜边全反射后在棱镜的底面汇聚；后端膜层模块，包括浸没式光刻模块或表面等离激元光刻模块；浸没式光刻模块包括匹配液层、衬底层、光刻膜层，相干光经棱镜的底面出射后在浸没式光刻模块中形成干涉并对光刻膜层进行曝光；表面等离激元光刻模块包括超透镜膜层、衬底层，超透镜膜层包括光刻胶层、金属层，汇聚后的相干光在棱镜底面外形成的倏逝波与超透镜膜层产生耦合并对光刻胶层进行曝光。本公开可兼容浸没式光刻和表面等离激元光刻两种模式。
主权项：1.一种双模式高分辨干涉光刻装置，其特征在于，包括：前端光路模块，沿光路依次包括激光光源（1）、调节镜组（2）和棱镜（3），所述激光光源（1）产生的光经所述调节镜组（2）的分束调节形成至少两束相干光，所述相干光垂直进入所述棱镜（3）、经所述棱镜（3）的斜边全反射后在所述棱镜（3）的底面汇聚；所述棱镜（3）为左右轴对称的棱台；后端膜层模块，包括浸没式光刻模块或表面等离激元光刻模块；其中，所述浸没式光刻模块包括匹配液层（11）、衬底层（12）、光刻膜层（13），所述相干光经所述棱镜（3）的底面出射后在所述浸没式光刻模块中形成干涉并对所述光刻膜层（13）进行曝光；所述表面等离激元光刻模块包括超透镜膜层（21）、衬底层（22），所述超透镜膜层（21）包括光刻胶层（211）、金属层（212），汇聚后的所述相干光在所述棱镜（3）的底面外形成的倏逝波与所述超透镜膜层（21）产生耦合并对所述光刻胶层（211）进行曝光。
全文数据：
权利要求：
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