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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
摘要：一种CMPLK机台清洗端漏液检测装置，包括：刷槽，设置清洗液，用以对晶圆进行清洗；槽盖板，晶圆上残留的清洗液通过槽盖板倾斜向排液槽流至排液口，并通过排液管进行排液；漏液检测单元，设置在LK机台清洗端刷槽与排液槽之间，且当漏液液位升高至排液口预设高度时漏液检测单元触发报警；排水盘，设置第一漏液传感器，并在漏液通过排液槽的外壁缝隙滴落至LK机台底部排水盘时触发第一漏液传感器。本发明能够保证漏液检测单元触发报警后，研磨工艺正常运行，仅停止抽片，并可快速有效处理排液口堵塞问题，及时疏通，极大降低晶圆报废的可能，让机台有更好的运行时间表现，减轻工程师负担，提高机台运行安全性。
主权项：1.一种CMPLK机台清洗端漏液检测装置，其特征在于，所述CMPLK机台清洗端漏液检测装置，包括：刷槽，所述刷槽内设置清洗液，用以对晶圆进行清洗；槽盖板，所述晶圆上残留的清洗液通过所述槽盖板倾斜向排液槽流至排液口，并通过排液管进行排液；漏液检测单元，所述漏液检测单元设置在LK机台清洗端刷槽与排液槽之间，且当漏液液位升高至排液口预设高度时所述漏液检测单元触发报警；排水盘，所述排水盘内设置第一漏液传感器，并在漏液通过排液槽的外壁缝隙滴落至LK机台底部排水盘时触发所述第一漏液传感器。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 一种CMP LK机台清洗端漏液检测装置及检测方法
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