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申请/专利权人：萨特隆股份公司
摘要：一种用于保持沿主延伸方向弯曲的衬底SS的结构10，其适于容纳在与蒸发源16相对的涂覆装置12的真空腔室14中，并包括可围绕第一旋转轴线RA1可旋转驱动的毂部18，远离其径向延伸的臂构件20，以及安装在臂构件上以便可围绕第二旋转轴线RA2可旋转驱动的辊本体22。辊本体承载用于保持衬底的固定件24，该固定件的主延伸方向横向于相应的第二旋转轴线，每个固定件相对于辊本体围绕横向于所述第二旋转轴线延伸的倾斜轴线TA可倾斜地布置，以便能调节在被保持的衬底的中心CE中的表面法线SN与穿过中心的所述第二旋转轴线上的垂线PP之间的角度。
主权项：1.一种用于在真空涂覆工艺中保持至少沿主延伸方向MD弯曲的衬底SS的衬底保持器结构10，所述衬底保持器结构10适于容纳在与蒸发源16相对且间隔开的真空涂覆装置12的真空腔室14中，使得从所述蒸发源16蒸发的涂覆材料能够撞击在由所述衬底保持器结构10保持的衬底SS的待涂覆表面SF上，所述衬底保持器结构10包括：毂部18，所述毂部围绕第一旋转轴线RA1能旋转地驱动，所述第一旋转轴线能相对于所述蒸发源16以限定的方式定位，至少一个臂构件20，所述至少一个臂构件20如在俯视图中所见在相对于所述第一旋转轴线RA1的径向方向上远离所述毂部18延伸，以及至少一个辊本体22，所述至少一个辊本体22安装在所述臂构件20上，以便能围绕沿所述臂构件20延伸的第二旋转轴线RA2能旋转地驱动，并且所述至少一个辊本体22承载至少一个固定件24，所述至少一个固定件24用于将所述衬底SS保持在其中所述衬底SS的主延伸方向MD基本横向于所述第二旋转轴线RA2的取向中，其特征在于，用于保持所述衬底SS的所述固定件24布置成围绕基本横向于所述第二旋转轴线RA2延伸的倾斜轴线TA相对于所述辊本体22是能倾斜的，以便能调节在由所述固定件24保持的衬底SS的有待涂覆的表面SF的中心CE中的表面法线SN与穿过所述中心CE的所述第二旋转轴线RA2上的垂线PP之间的角度α。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 萨特隆股份公司 用于在真空涂覆工艺中保持弯曲衬底的衬底保持器结构和具有该衬底保持器结构的真空涂覆装置
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