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申请/专利权人：上海微崇半导体设备有限公司
摘要：本发明提供一种多层材料反射率的测量装置及方法。测量装置包括：探测光源，用于发射探测光；第一二向色镜，探测光经第一二向色镜反射后垂直入射至多层材料样品的表面；激发光源，用于发射激发光，激发光经第一二向色镜透射后垂直入射至多层材料样品的表面；第一补偿片，设置于探测光源和第一二向色镜之间，探测光经第一补偿片透射后入射至第一二向色镜，多层材料样品的表面反射的光经第一二向色镜反射后入射至第一补偿片；第一探测器，设置于第一补偿片的第一反射路径上，用于接收探测光经第一补偿片反射的光信号；第二探测器，设置于第一补偿片的第二反射路径上，用于接收第一二向色镜反射的光经第一补偿片反射的光信号。
主权项：1.一种多层材料反射率的测量装置，其特征在于，包括：探测光源，用于发射探测光；第一二向色镜，所述探测光经所述第一二向色镜反射后垂直入射至多层材料样品的表面；激发光源，用于发射激发光，所述激发光经所述第一二向色镜透射后垂直入射至多层材料样品的表面；第一补偿片，设置于所述探测光源和所述第一二向色镜之间，所述探测光源发射的探测光经所述第一补偿片透射后入射至所述第一二向色镜，所述多层材料样品的表面反射的光经所述第一二向色镜反射后入射至所述第一补偿片；第一探测器，设置于所述第一补偿片的第一反射路径上，用于接收所述探测光源发射的探测光经所述第一补偿片反射的光信号；第二探测器，设置于所述第一补偿片的第二反射路径上，用于接收所述第一二向色镜反射的光经所述第一补偿片反射的光信号。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海微崇半导体设备有限公司 多层材料反射率的测量装置及方法
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