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申请/专利权人：惠州韧达纳米科技有限公司
摘要：本实用新型提供一种真空规管保护装置，涉及真空规管技术领域，包括真空规管，所述真空规管上设置有防护机构，所述防护机构上设置有辅助机构，所述防护机构包括防护盖和圆环块，所述防护盖的底部开设有环形槽，所述环形槽的内部安装有密封圈，所述防护盖的底部固定有三个卡块，所述圆环块的顶部开设有三个卡孔。本实用新型中，通过设置防护机构，可以让真空规管在长时间储存放置时其表面不会出现被氧化、腐蚀、污染等问题，从而保证了真空规管在后期使用时的导电性能和精度，继而保证了真空规管后期使用时测量结果的准确性。
主权项：1.一种真空规管保护装置，其特征在于，包括真空规管1，所述真空规管1上设置有防护机构2，所述防护机构2上设置有辅助机构3；所述防护机构2包括防护盖201和圆环块205，所述防护盖201的底部开设有环形槽202，所述环形槽202的内部安装有密封圈203，所述防护盖201的底部固定有三个卡块204，所述圆环块205的顶部开设有三个卡孔206，所述圆环块205的外表面开设有环形孔207，所述环形孔207的内部放置有柔性铁片208，三个所述卡块204的外表面均开设有矩形孔209。
全文数据：
权利要求：
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