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耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件 

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申请/专利权人:琳得科株式会社

摘要:本发明提供一种能够定量地、且以高再现性评价耐指纹性的耐指纹性的评价方法、利用了该评价方法的光学构件的生产方法以及耐指纹性优异的光学构件。该耐指纹性的评价方法中,测定评价对象表面的、由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*,接着,在评价对象的表面上涂布油酸稀释液并使其干燥后,测定由CIE1976L*a*b*表色系所规定的明度L*,将涂布油酸稀释液前后的明度L*作为指标,评价评价对象的表面的耐指纹性。

主权项:1.一种硬涂膜,其具备基材且在最外层表面具备硬涂层,所述硬涂膜的特征在于,所述硬涂膜以所述硬涂层位于可能附着指纹的物品的可能附着该指纹的最外层表面的方式配置,所述硬涂层为涂布组合物的固化物,所述涂布组合物含有活性能量射线固化性成分、微粒及表面调整剂,所述表面调整剂为氟类化合物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 琳得科株式会社 耐指纹性的评价方法、光学构件的生产方法及光学构件

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