龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本实用新型提供了一种工艺腔室及薄膜沉积设备。所述工艺腔室包括：腔室本体，其侧壁上设有环形的抽气通道，用于从所述腔室本体内部抽出薄膜沉积工艺的尾气；节流阀，设于所述抽气通道的后端，用于在所述薄膜沉积工艺中，通过改变自身的开度来调节对所述腔室本体的抽气流量，以维持所述腔室本体中的气压恒定；以及衬套，设于所述抽气通道与所述节流阀之间，用于调节所述抽气通道与所述节流阀之间的气体流阻，以将所述节流阀在整个薄膜沉积工艺中的开度维持在其线性控制区间内。
主权项：1.一种工艺腔室，其特征在于，包括：腔室本体，其侧壁上设有环形的抽气通道，用于从所述腔室本体内部抽出薄膜沉积工艺的尾气；节流阀，设于所述抽气通道的后端，用于在所述薄膜沉积工艺中，通过改变自身的开度来调节对所述腔室本体的抽气流量，以维持所述腔室本体中的气压恒定；以及衬套，设于所述抽气通道与所述节流阀之间，用于调节所述抽气通道与所述节流阀之间的气体流阻，以将所述节流阀在整个薄膜沉积工艺中的开度维持在其线性控制区间内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种工艺腔室及薄膜沉积设备
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号