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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：本申请涉及一种周期性结构及其制备方法、光罩及其制备方法。该周期性结构的制备方法包括建立光学邻近校正模型，光学邻近校正模型被配置为：确定可光刻成像的光栅成像周期值；提供光罩设计图形，基于光学邻近校正模型确定光罩设计图形的光栅成像周期值为光栅周期目标值；根据光栅周期目标值将光罩设计图形光栅化重现，得到光罩图形；于掩模基版中形成光罩图形，得到光罩；基于光罩中的光罩图形，形成周期性结构。该周期性结构的制备方法图形边界清晰、精准，有利于提升光刻工艺过程中的生产加工良率。
主权项：1.一种周期性结构的制备方法，其特征在于，包括：建立光学邻近校正模型，所述光学邻近校正模型被配置为：确定可光刻成像的光栅成像周期值；提供光罩设计图形，基于所述光学邻近校正模型确定所述光罩设计图形的所述光栅成像周期值为光栅周期目标值；根据所述光栅周期目标值将所述光罩设计图形光栅化重现，得到光罩图形；于掩模基版中形成所述光罩图形，得到光罩；基于所述光罩中的所述光罩图形，形成周期性结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长鑫存储技术有限公司 周期性结构及其制备方法、光罩及其制备方法
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