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申请/专利权人：株式会社日立高新技术
摘要：为了使等离子处理装置的处理的效率提升，具备：金属制的基材，其配置于等离子处理装置的样品台的内部，具有圆筒形或圆板形；电介质膜，其配置于该基材的上表面，含有电介质材料，构成载置晶片的载置面；膜状的加热器，其配置于该电介质膜的内部；冷媒流路，其在所述基材的内部绕着该基材的中心同心状或螺旋状多重配置，在内部流通冷媒；和至少1个圆弧状的空间，其在该冷媒流路与所述加热器之间的所述基材的内部绕着所述中心多重配置，内部被减少为给定的真空度并被密封，多重配置的所述圆弧状的空间彼此之间的所述基材的部分的区域在从上方观察时，配置为投影到相邻的2个所述冷媒流路彼此之间将它们分隔的所述基材的中间部分的区域而重叠。
主权项：1.一种等离子处理装置，具有配置于真空容器的内部的处理室的内部且在其上表面载置处理对象的晶片的样品台，在所述处理室的内部形成等离子来对所述晶片进行处理，所述等离子处理装置的特征在于，具备：基材，其配置于所述样品台的内部，具有圆筒形或圆板形，为金属制的；电介质膜，其配置于所述基材的上表面，含有电介质材料，构成载置所述晶片的载置面；加热器，其配置于所述电介质膜的内部，为膜状的；冷媒流路，其在所述基材的内部绕着所述基材的中心同心状或螺旋状多重配置，在其内部流通冷媒；和至少1个圆弧状的空间，其在所述冷媒流路与所述加热器之间的所述基材的内部绕着所述中心多重配置，其内部被减少为给定的真空度并被密封，多重配置的所述圆弧状的空间彼此之间的所述基材的部分的区域即架桥部在从上方观察时，配置在投影到在相邻的2个所述冷媒流路彼此之间将所述冷媒流路彼此分隔的所述基材的中间部分的区域而重叠的位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社日立高新技术 等离子处理装置以及等离子处理装置的样品台的制造方法
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