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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;北京京东方技术开发有限公司
摘要：本申请公开了一种表面处理装置、显示基板的表面处理方法及显示装置。所述表面处理装置包括：腔室，位于腔室内的电场组件、磁场组件、供气单元以及显示基板设置位。其中，电场组件能够通过第一极板和第二极板形成第一方向的电场，该电场可以激发气体形成等离子体。磁场组件可以在第一极板和第二极板之间形成磁场，磁场的作用力的方向与第一方向相反，则磁场的作用力能够抵消至少部分的电场力，如此可以减小电场对等离子体的移动方向的影响，避免等离子体在电场作用下轰击极板，从而可以降低极板的材料在等离子体的轰击下附着在显示基板的阳极表面的风险，进而可以提升显示装置的发光效率。
主权项：1.一种表面处理装置，其特征在于，所述表面处理装置包括：腔室，位于所述腔室内的电场组件、磁场组件、供气单元以及显示基板设置位；所述电场组件包括相对设置的第一极板以及第二极板，所述电场组件用于在所述第一极板和所述第二极板之间形成第一方向的电场，所述第一方向为所述第一极板指向所述第二极板的方向；所述磁场组件位于所述电场组件在所述第一方向上的至少一侧，所述磁场组件用于在所述第一极板和所述第二极板之间形成磁场，所述磁场的作用力的方向与所述第一方向相反；所述供气单元和所述显示基板设置位分别位于所述电场组件在第二方向上的两侧，所述第二方向为与所述第一方向垂直的方向，所述供气单元用于向所述第一极板与所述第二极板之间供应流向所述显示基板设置位的气体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 成都京东方光电科技有限公司 北京京东方技术开发有限公司 表面处理装置、显示基板的表面处理方法及显示装置
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