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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本文所述的实施例提供了磁性外壳系统及电磁外壳系统，以及用于控制在工艺腔室的工艺空间中产生的等离子体的性质，以影响膜的沉积性质的方法。在一个实施例中，所述方法包括使旋转磁性外壳绕工艺空间的中心轴旋转，以产生动态磁场。磁场会改变等离子体的形状、离子和自由基的集中度、以及离子和自由基的集中度的移动，以控制等离子体的密度轮廓。控制等离子体的密度轮廓，可以调整沉积或蚀刻的膜的均匀性和性质。
主权项：1.一种方法，包括：向设置在基板支撑件中的电极输送射频RF功率，以产生等离子体，所述基板支撑件设置在腔室主体中；以及使旋转磁性外壳绕所述腔室主体的外部表面旋转，使得所述磁性外壳的多个磁体在围绕所述腔室主体的所述外部表面的路径中行进，所述多个磁体中的每个磁体位于保持支架中，所述保持支架耦接至位于围绕所述腔室主体的所述外部表面的轨道，并且所述保持支架被配置为在所述轨道上移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 使用旋转磁性外壳的可调均匀度控制
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