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摘要：本发明公开了一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法，包括如下步骤：S1，240～260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积SiO2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；S2，在SiO2层表面磁控溅射ITO膜层，ITO膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。本发明通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置SiO2层和ITO膜层，形成复合涂层结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。
主权项：1.一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法，其特征在于，包括如下步骤：S1，240~260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积SiO2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；S2，在所述SiO2层磁控溅射ITO膜层，所述ITO膜层的厚度为40~200nm，所述聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应的色相图区域包括Y、C、G、B区域，且所述ITO膜层厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应；所述聚酰亚胺薄膜的黄色指数YI3.3，透过率大于85%，所述聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为Y区域，所述ITO膜层的厚度为40~80nm，所述聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为C区域，所述ITO膜层的厚度为80~120nm，所述聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为G区域，所述ITO膜层的厚度为120~160nm，所述聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为B区域，所述ITO膜层的厚度为160~200nm。
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