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申请/专利权人：IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
摘要：本发明涉及一种EUVL扫描仪10。该EUVL扫描仪包括：EUV光源110；掩膜版120；安装在掩膜版120的前面并包括EUV透射膜132的薄膜130，在使用中，该透射膜将透射光散射成具有主轴114的椭圆散射图案112；以及变形高高NA成像系统140，其被配置为将由掩膜版120反射的光通过薄膜130投射到目标晶片150上；其中成像系统140的接收锥160的横截面162具有主轴164，并且其中薄膜130相对于成像系统140被布置，使得散射图案112的主轴114相对于成像系统140的接收锥160的横截面162的主轴164成一角度定向。
主权项：1.一种EUVL扫描仪10，包括：EVU光源110；掩膜版120；安装在所述掩膜版120的前面并包括EUV透射膜132的薄膜130，在使用中，所述透射膜132将透射光散射成具有主轴114的椭圆散射图案112；以及具有非圆形横截面的接收锥的变形高NA成像系统140，被配置为将由所述掩膜版120反射的光通过所述薄膜130投射到目标晶片150上；其中所述成像系统140的接收锥160的横截面162具有主轴164，并且其中所述薄膜130相对于所述成像系统140被布置，使得所述散射图案112的所述主轴114相对于所述成像系统140的所述接收锥160的所述横截面162的所述主轴164成一角度定向。
全文数据：
权利要求：
百度查询： IMEC非营利协会 鲁汶天主教大学 EUVL扫描仪
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