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申请/专利权人：默克专利有限公司

摘要：提供形成膜时可以减少升华物的新型聚合物以及包含该聚合物的组合物。根据本发明的聚合物A包含从以下描述的由单元a、单元b、单元c和单元d组成的组中选择的至少一个结构单元，单元a、b、c和d的各自的重复数na、nb、nc和nd满足下式：na+nb＞0、nc≥0和nd≥0。

主权项：1.一种下层防反射膜组合物，其为含有聚合物A以及溶剂B的半导体组合物，该聚合物A包含从以下单元a、单元b、单元c和单元d组成的组中选择的至少一个结构单元：式a所表示的单元a： 式a中，Ra1和Ra2分别独立地为H、C1-5烷基、C1-5烷氧基或-COOH，La为单键、C1-5亚烷基、-O-、或C1-5亚烷氧基，ma为1，Xa1为H、或C1-5烃基，C1-5烃基中的1个以上的-CH2-分别独立地被-NH-、-C＝O-和或-O-替换或不替换，且C1-5烃基中的1个以上的-CH3分别独立地被-NH2和或-COOH替换或不替换，Ya为N或O，其中，Ya为N时pa为2，Ya为O时pa为1，Xa2为H、或C1-5烃基，C1-5烃基中的1个以上的-CH2-分别独立地被-NH-、-C＝O-和或-O-替换或不替换，且C1-5烃基中的1个以上的-CH3分别独立地被-NH2和或-COOH替换或不替换，pa为2时，2个Xa2相同或不同，或者，Xa1与Xa2键合，和或pa为2时2个Xa2键合，形成饱和环或不饱和环；式b所表示的单元b： 式b中，Rb1和Rb2分别独立地为H、C1-5烷基、C1-5烷氧基、C1-5烷氧基烷基、或-COOH，mb为1，Lb为单键、C1-5亚烷基、C6-20亚芳基、-O-、或C1-5亚烷氧基，Zb为C6-20芳香族烃或C7-20芳香族取代脂肪族烃，pb为0～4，qb为1～3，Rb3为H、C1-5烷基、C1-5烷氧基、C1-5烷氧基烷基、或-COOH，pb1时，各个Rb3相同或不同，Rb4为H或甲基，qb1时，各Rb4相同或不同，其中，单元b包含含有至少1个缩合结构的芳基；式c所表示的单元c： 式c中，Rc1和Rc2分别独立地为H、C1-5烷基、C1-5烷氧基、或-COOH，mc为1，Lc为单键、C1-5亚烷基、-O-、或C1-5亚烷氧基，Vc为缩合芳香族烃或缩合杂环，Vc为3～6个环缩合而成，pc为0～5，Rc3为C1-5烷基、C1-5烷氧基、或-COOH，pc1时，各Rc3相同或不同；以及下述式d所表示的单元d： 式d中，Rd1和Rd2分别独立地为H、C1-5烷基、C1-5烷氧基或-COOH，md为1，Ld为单键、C1-5亚烷基、-O-、或C1-5亚烷氧基，C1-5亚烷基中的1个以上的-CH2-被-NH-、-C＝O-和或-O-替换或不替换，且C1-5亚烷基中的1个以上的-CH3被-OH、-NH2和或-COOH替换或不替换，单元a、b、c以及d的重复数分别为na、nb、nc以及nd，其满足以下的式：na+nb0，nc0，以及nd≥0，nana+nb+nc+nd为2～80％，nbna+nb+nc+nd为10～90％，ncna+nb+nc+nd为3～80％，并且ndna+nb+nc+nd为0～80％。

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权利要求：

百度查询： 默克专利有限公司 聚合物、含有聚合物而成的半导体组合物、以及使用了半导体组合物的膜的制造方法