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申请/专利权人：福建省龙岩市龙威半导体有限公司
摘要：本发明涉及涂覆缺陷检测技术领域，尤其涉及一种半导体分立器件涂覆缺陷自动检测系统，包括涂覆缺陷检测平台、数据采集单元、运效监管单元、补光干扰单元、图像处理单元、缺陷检测单元以及管理响应单元；本发明初步从涂覆检测设备的缺陷检测效率角度进行检测可靠性监管评估分析，以保证涂覆检测设备的检测效率可靠性，通过信息反馈的方式进一步对历史补光数据进行补光干扰监管评估分析，以保证图像采集头图像采集效率，同时对图像处理信息进行图像处理效率监管分析，以保证图像处理速率，以及通过信息融合的方式进行分析，以保证设备检测效率，同时对外观特征图像进行缺陷识别显示反馈分析，有助于直观的了解到涂覆结果。
主权项：1.一种半导体分立器件涂覆缺陷自动检测系统，其特征在于，包括涂覆缺陷检测平台、数据采集单元、运效监管单元、补光干扰单元、图像处理单元、缺陷检测单元以及管理响应单元；所述数据采集单元用于采集涂覆检测设备的识别数据，识别数据表示检测运效评估系数，并将识别数据发送至运效监管单元，运效监管单元在接收到识别数据后，立即对识别数据进行检测可靠性监管评估分析，并对检测运效评估均值进行比对分析，得到反馈指令和管控信号，当生成反馈指令时，进一步对运效跨度系数进行判别分析，得到稳定信号和波动信号；所述补光干扰单元用于采集涂覆检测设备的历史补光数据，并对历史补光数据进行补光干扰监管评估分析，对得到的补光干扰评估系数进行比对处理，得到正常信号和风险信号；所述图像处理单元用于采集涂覆检测设备的图像处理信息，图像处理信息表示图像处理总项数，并对图像处理信息进行图像处理效率监管分析，对得到的图像处理偏差率L进行比对分析，得到合格信号和不合格信号；所述缺陷检测单元用于对补光干扰评估系数和图像处理偏差率L进行融合影响监管评估操作，对得到的融合干扰评估系数H进行判别分析，若得到融合调控信号，则反馈管理，若得到自检信号，则进行缺陷识别显示反馈分析，并将得到的标准信号和偏差信号发送至管理响应单元。
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权利要求：
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