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申请/专利权人：FHR设备制造有限公司
摘要：本发明公开了一种用于保护涂覆源中的氧敏感的靶材的方法和装置。本发明的目的在于，提供一种方法以及一种布置结构，借助它们可以保护涂覆源的反应性的、尤其是氧敏感的靶材免受污染和不期望的反应，该目的通过一种方法得以实现，其中，首先活门密封地封闭涂覆源，并且使保护气体通过气体入口引入到涂覆源空间中，该涂覆源空间通过涂覆源和活门形成。在此，相对于在处理室内部的真空室压力设定在涂覆源空间中的过压。接着，将另一气体引入到处理室中以用于引起反应，也就是说中和处理室中的涂层。现在，处理室被通风以空气或氮气，而不发生不期望的反应。处理室随后朝向大气打开，即处理室的门朝向周围环境打开，其中于是始终维持相对于涂覆源空间中的气氛的过压。
主权项：1.一种用于保护涂覆源4的方法，所述涂覆源包括反应性的涂覆材料11，其中，带有涂覆材料11的涂覆源4通过活门5与处理室2隔离，其特征在于，-所述活门5密封地封闭所述涂覆源4，并且保护气体通过气体入口10引入到涂覆源空间3中，所述涂覆源空间由所述涂覆源4和所述活门5形成，并且相对于所述处理室2内的真空室压力和随后在所述处理室2外的大气压力来设定所述涂覆源空间3中的过压，-将另一种气体引入到所述处理室2中引入到所述处理室2，以用于与在所述处理室2中的涂层引起反应，-将所述另一种气体从所述处理室2中泵出，-对所述处理室2通风7，其中，导入氮气或另一种气体，-将所述处理室2向大气打开，其中-始终维持在所述涂覆源空间3中的过压。
全文数据：
权利要求：
百度查询： FHR设备制造有限公司 用于保护涂覆源中的氧敏感的靶材的方法和装置
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