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申请/专利权人：华芯程(杭州)科技有限公司
摘要：本申请公开了一种OPC结果验证方法、装置、设备及存储介质，涉及微电子版图数据光学修正技术领域，包括：获取OPC修正后的光刻图形；检测所述光刻图形的特征尺寸受到曝光强度的影响，得到所述光刻图形在边缘位置处的图像对数斜率；分别判断各个边缘位置处的所述图像对数斜率是否小于预设斜率阈值或是否位于预设斜率区间；若所述图像对数斜率小于所述预设斜率阈值或位于所述预设斜率区间，则在所述光刻图形的对应边缘位置处进行缺陷标记，并判定所述光刻图形的OPC验证结果为未通过。本申请能够解决光刻胶的随机效应，提升光刻芯片的良率。
主权项：1.一种OPC结果验证方法，其特征在于，包括：获取OPC修正后的光刻图形；检测所述光刻图形的特征尺寸受到曝光强度的影响，得到所述光刻图形在边缘位置处的图像对数斜率；分别判断各个边缘位置处的所述图像对数斜率是否小于预设斜率阈值或是否位于预设斜率区间；若所述图像对数斜率小于所述预设斜率阈值或位于所述预设斜率区间，则在所述光刻图形的对应边缘位置处进行缺陷标记，并判定所述光刻图形的OPC验证结果为未通过。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华芯程(杭州)科技有限公司 一种OPC结果验证方法、装置、设备及存储介质
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