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申请/专利权人：黄剑鸣

摘要：本发明公开一种布料正反面镀膜设备，用于对布料的正反面进行同时沉积镀膜，其包括镀膜装置、电源、预紧装置及牵引装置，该镀膜装置包括呈上下对称设置的两PECVD机构，两PECVD机构之间形成对布料沉积镀膜的沉积腔，该沉积腔设有供布料贯穿通过的通口；电源分别对应与两PECVD机构电性连接用于电离工艺气体；预紧装置设置于镀膜装置的之前为布料在整过沉积镀膜的过程中的传输提供预紧张力；牵引装置设置于镀膜装置之后为布料在整过沉积镀膜的过程中的传输提供牵引动力。本发明通过上述部件的配合，能在布料的正反面上同时形成稳定且均匀的镀膜层，从而形成正反面均镀膜的布料。

主权项：1.一种布料正反面镀膜设备，用于对布料的正反面进行同时沉积镀膜，其特征在于，包括：用于对布料的双面同时进行等离子体沉积镀膜的镀膜装置，所述镀膜装置包括呈上下对称设置的两PECVD机构，所述PECVD机构包括布气盒、电极件及支撑框，所述布气盒呈中空结构，所述中空结构形成气源腔，所述布气盒上设有与所述气源腔连通的供工艺气体通入的进气通道，所述布气盒的底部呈导电结构，所述布气盒的底部贯穿开设有若干通孔；所述支撑框呈绝缘结构，所述支撑框与所述布气盒的底部连接；所述电极件呈格栅结构，所述电极件连接于所述支撑框内，所述布气盒的底部借由所述支撑框与所述电极件呈正对的距离一定间距的平行设置，所述布气盒的底部借由所述支撑框与所述电极件呈绝缘设置，所述布气盒的底部与所述电极件之间的间距形成供工艺气体电离的电离辉光区；所述气源腔借由所述通孔与所述电离辉光区连通；两所述PECVD机构的支撑框正对对接连接形成连接件，两所述支撑框正对连接使两所述电极件之间距离一定间隙，所述间隙形成沉积腔，所述电离辉光区借由格栅结构与所述沉积腔连通，所述连接件正对所述沉积腔贯穿开设有供布料穿过沉积腔的通口；所述连接件上贯穿开设有用于与外界抽气装置连通的抽气孔，所述抽气孔连通所述沉积腔；电源，所述布气盒的底部及所述电极件分别对应与所述电源的两极电性连接；预紧装置，所述预紧装置包括第一输送件及预紧辊组，所述第一输送件具有正对所述通口且用于承载平铺状布料的第一输送面，所述预紧辊组包括均呈转动设置的上预紧辊及下预紧辊，所述上预紧辊设于所述下预紧辊的正上方且二者相切设置，所述上预紧辊和\或所述下预紧辊的外表具有一层一定厚度的具有弹性的第一结构层；所述第一输送面的末端对接所述上预紧辊与所述下预紧辊的相切处；牵引装置，所述牵引装置包括第二输送件及传动辊组，所述第二输送件具有正对所述通口且用于承载平铺状布料的第二输送面，所述传动辊组包括主动辊、驱动组件及从动辊，所述驱动组件与所述主动辊连接并驱动所述主动辊转动，所述从动辊呈转动设置并与所述主动辊相切，所述从动辊设于所述主动辊的正上方，所述主动辊和\或所述从动辊的外表具有一层一定厚度的具有弹性的第二结构层；所述第二输送面的起始端对接所述主动辊与所述从动辊的相切处；所述第一输送面、所述上预紧辊与所述下预紧辊的相切处、所述通口、所述主动辊与所述从动辊的相切处及所述第二输送面位于同一直线上。

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