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设计集成电路的方法和系统 

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申请/专利权人:三星电子株式会社

摘要:提供了一种设计集成电路的方法和系统。示例实施例提供了一种集成电路的设计方法,所述设计方法包括:布置贯穿过孔;基于根据距贯穿过孔的距离的饱和电流变化率来确定贯穿过孔周围的隔离区;布置标准单元;确定所述单元之中的布置在隔离区内的单元;以及基于从贯穿过孔到单元的距离来设置时序裕度。

主权项:1.一种设计方法,所述设计方法包括:将贯穿过孔布置在半导体芯片上;基于根据距贯穿过孔的距离的饱和电流变化率来确定贯穿过孔周围的隔离区;将多个标准单元布置在半导体芯片上;确定所述多个标准单元中的第一单元被布置在隔离区内;以及基于从贯穿过孔到第一单元的距离来设置时序裕度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星电子株式会社 设计集成电路的方法和系统

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