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申请/专利权人：日产化学株式会社
摘要：本发明的课题是提供根据基板表面的材质而能够选择性地掩蔽的材料。解决手段是下述高分子膜形成用组合物、和使用该高分子膜形成用组合物的向基板的表面选择性形成高分子膜的方法，上述高分子膜形成用组合物是用于在具有表面由金属I形成的区域R‑I、和表面由与金属I不同的材质II形成的区域R‑II的基板中，选择性地在基板的区域R‑I上形成高分子膜的高分子膜形成用组合物，上述高分子膜形成用组合物包含自由基产生剂A和自由基加成反应性化合物B。
主权项：1.一种高分子膜形成用组合物，是用于在具有表面由金属I形成的区域R-I、和表面由与金属I不同的材质II形成的区域R-II的基板中，选择性地在基板的区域R-I上形成高分子膜的高分子膜形成用组合物，所述高分子膜形成用组合物包含自由基产生剂A和自由基加成反应性化合物B。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 高分子膜形成用组合物及选择性高分子膜形成方法
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