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申请/专利权人:江苏凯威特斯半导体科技有限公司
摘要:本发明涉及硅片清洗技术领域,并公开了一种万向工件辅助定位的高纯硅料半自动清洗设备,包括设备部,所述设备部包括主机柜体,所述主机柜体内部开设有可用于外部硅片进行清洗的浸泡槽,万向工件部,所述万向工件部位于浸泡槽围成的空间中,所述万向工件部包括挂篮,所述挂篮通过设置在其侧面的结合件转动连接有可用于外部硅片进行放置的容器。该万向工件辅助定位的高纯硅料半自动清洗设备,能够有效地解决现有技术中,硅片的加工需要药剂进行清洗,高纯硅料清洗设备一般采用挂篮容器来装载硅片,然后,整体放置在浸泡槽中进行清洗,由于容器和硅片之间相贴合,所以硅片和容器的贴合面之间无法清理干净,进而降低硅片洁净度的问题。
主权项:1.一种万向工件辅助定位的高纯硅料半自动清洗设备,其特征在于,包括:设备部(1),所述设备部(1)包括主机柜体(11),所述主机柜体(11)内部开设有可用于外部硅片进行清洗的浸泡槽(12);万向工件部(2),所述万向工件部(2)位于浸泡槽(12)围成的空间中,所述万向工件部(2)包括挂篮(21),所述挂篮(21)通过设置在其侧面的结合件(22)转动连接有可用于外部硅片进行放置的容器(23);其中,所述挂篮(21)的底部转动连接有六角杆(211),所述浸泡槽(12)的内壁底部密封转动连接有与六角杆(211)相卡合的六角头(121);其中,所述容器(23)包括上半轴(231)和下半轴(232),所述上半轴(231)和下半轴(232)的圆周外表面通过连接板均固定连接有弧形板(233)。
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