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摘要:一种用于分析微结构化样品100的图像300的方法,所述微结构化样品100包括至少一个第一区段112和至少一个第二区段114,所述第二区段114具有边缘110并且相对于所述第一区段112凸起,其中,所述图像包括二维强度分布304,所述方法包括:a基于所述二维强度分布的梯度316、318来确定所述至少一个第二区段的多个边缘候选312、314,b确定所述图像在垂直于所述多个边缘候选的方向R上的一维强度分布320,其中,在所述方向R上,所述一维强度分布包括具有第一平均强度值I1的第一区域306’、所述多个边缘候选和具有大于所述第一平均强度值的第二平均强度值I2的第二区域308’,以及c将所述多个边缘候选中的在所述多个边缘候选中最接近所述一维强度分布的所述第一区域的边缘候选确定为所述至少一个第二区段的边缘。
主权项:1.一种用于分析微光刻微结构化样品100的图像300的方法,其中,所述样品100包括至少一个第一区段112和至少一个第二区段114,所述至少一个第二区段114具有边缘110并且相对于所述第一区段112凸起,并且其中,所述图像300包括多个像素302和取决于所述像素302的二维强度分布304,所述方法包括以下步骤:a基于所述二维强度分布304的梯度316、318来确定S2针对所述至少一个第二区段114的所述边缘110的图像表示的多个边缘候选312、314,b确定S3所述图像300在垂直于所述多个边缘候选312、314的方向R上的一维强度分布320,其中,在所述方向R上,所述一维强度分布320包括具有第一平均强度值I1的第一区域306’、所述多个边缘候选312、314和具有大于所述第一平均强度值I1的第二平均强度值I2的第二区域308’,以及c将所述多个边缘候选312、314中在所述多个边缘候选312、314中最接近所述一维强度分布320的所述第一区域306’的边缘候选确定S4为所述至少一个第二区段114的所述边缘110的所述图像表示。
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百度查询: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 用于分析微光刻微结构化样品的图像的方法和设备
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