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申请/专利权人：HOYA株式会社
申请日：2019-11-27
公开（公告）日：2024-12-13
公开（公告）号：CN119126477A
专利技术分类：.相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备[2012.01]
专利摘要：本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。
专利权项：1.一种光掩模坯料，其在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，所述图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，所述图案形成用薄膜具有柱状结构，所述图案形成用薄膜的柱状结构为以下的状态：在空间频谱分布的图像中，将所述空间频谱分布的图像的中心设为空间频谱的原点，存在相对于与所述空间频谱分布的图像中的所述空间频率的原点对应的所述空间频谱分布的图像中的最大信号强度具有1.0％以上的信号强度的空间频谱，所述空间频谱分布如下得到：对于以80000倍的倍率用扫描电子显微镜观察所述光掩模坯料的截面而得到的图像，对包含所述图案形成用薄膜的厚度方向的中心部的区域提取纵64像素×横256像素的图像数据，对所述图像数据进行傅里叶变换。
百度查询： HOYA株式会社 光掩模坯料、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
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