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摘要：本实用新型提供了一种基座装置及物理气相沉积设备。该基座装置用于溅射腔体中，该装置包括载台、沉积环和固定组件。载台包括第一面；沉积环置于所述第一面上；所述沉积环包括第一环形本体，所述第一环形本体包括沿背离所述载台轴线方向延伸的环状凸出部，所述环状凸出部设有朝靠近所述载台的轴线方向内凹的凹槽；固定组件与所述凹槽相配合，以将所述沉积环与所述载台固定连接。本实用新型可解决盖环带起沉积环导致晶圆片偏移的问题，降低开腔取片的频率，延长溅射腔体保养周期，降低溅射腔体的保养次数，提高溅射机台的产能。
主权项：1.一种基座装置，其特征在于，用于溅射腔体中，包括：载台，包括第一面；沉积环，置于所述第一面上；所述沉积环包括第一环形本体，所述第一环形本体包括沿背离所述载台轴线方向延伸的环状凸出部，所述环状凸出部设有朝靠近所述载台的轴线方向内凹的凹槽；固定组件，与所述凹槽相配合，以将所述沉积环与所述载台固定连接。
权利要求：
百度查询： 上海积塔半导体有限公司 基座装置和物理气相沉积设备
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