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申请/专利权人：科磊股份有限公司
申请日：2023-10-17
公开（公告）日：2025-01-17
公开（公告）号：CN119325560A
专利技术分类：...特征在于待测物品的材料或形状（G01N21/89至G01N21/91，G01N21/94优先）[2006.01]
专利摘要：本发明公开一种设备，其包含真空室、第一组件、可相对于所述第一组件移动的第二组件及气体喷射器。所述真空室包含第一真空区及第二真空区。所述第一组件经安置于所述第一真空区中与所述第二真空区的界面处。所述第二组件经安置于所述第二真空区中的所述界面处且与所述第一组件间隔间隙。所述气体喷射器经配置以将缓冲气体从所述第一组件及所述第二组件中的至少一者中的至少一个孔喷射到所述第一组件与所述第二组件之间的所述间隙中。所述缓冲气体在所述第二组件相对于所述第一组件移动期间提供所述第一真空区与所述第二真空区之间的动态密封。
专利权项：1.一种设备，其包括：真空室，其包括第一真空区及第二真空区；第一组件，其经安置于所述第一真空区中与所述第二真空区的界面处；第二组件，其经安置于所述第二真空区中的所述界面处且与所述第一组件间隔间隙，其中所述第二组件能够相对于所述第一组件移动；及气体喷射器，其经配置以将缓冲气体从所述第一组件及所述第二组件中的至少一者中的至少一个孔喷射到所述第一组件与所述第二组件之间的所述间隙中；其中所述缓冲气体在所述第二组件相对于所述第一组件移动期间提供所述第一真空区与所述第二真空区之间的动态密封。
百度查询： 科磊股份有限公司 用于超净真空系统的区之间的动态密封的方法及设备
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