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一种平面光波导、制造方法和光芯片专利

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申请/专利权人:华为技术有限公司

申请日:2023-07-17

公开(公告)日:2025-01-17

公开(公告)号:CN119322390A

专利技术分类:...基本光学元件,例如,传导光的光路[2006.01]

专利摘要:本申请提供了平面光波导、平面光波导的制造方法、光芯片和光通信设备,该平面光波导结构包括从下至上依次设置的:芯层,包括波导结构;包覆层,包覆芯层,包覆层的折射率与芯层不同;其中,包覆层内部设置有至少一道刻线,在衬底上,刻线的投影与波导结构中的波导的投影平行。即通过在波导的至少一侧设置刻线,以对芯层中的波导形成挤压,从而平衡平行于衬底的方向和垂直于衬底的方向的应力,降低双折射,提高器件性能。

专利权项:1.一种平面光波导,其特征在于,在衬底上,包括从下至上依次设置的:芯层,包括波导结构;包覆层,包覆所述芯层,所述包覆层的折射率与所述芯层不同;其中,所述包覆层内部设置有至少一道刻线,在所述衬底上,所述刻线的投影与所述波导结构中的波导的投影平行,并且所述刻线的投影与所述波导的投影具有间距。

百度查询: 华为技术有限公司 一种平面光波导、制造方法和光芯片

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