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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日：2023-07-17
公开（公告）日：2025-01-17
公开（公告）号：CN119322434A
专利技术分类：
专利摘要：本公开提供一种焦平面校准方法、装置、计算机设备和存储介质，属于数字曝光技术领域，焦平面校准方法对预设样板进行图像采集，得到目标图像；目标图像包括沿第一方向并排设置的多组第一对象组，以及沿第二方向并排设置的多组第二对象组；预设样板包括多个测试区域，且一个测试区域中的目标对象由曝光设备一次曝光得到；根据目标图像，确定各目标对象所对应的像素位置信息；基于各目标对象的像素位置信息，判断目标对象的曝光状态为正常或离焦，并根据判断结果和预先存储的各第一对象组所对应的曝光高度，确定不同测试区域分别对应的预测焦平面高度；基于各预测焦平面高度，确定曝光设备的最佳焦平面的校准信息。
专利权项：1.一种焦平面校准方法，其中，包括：对预设样板进行图像采集，得到目标图像；所述目标图像包括沿第一方向并排设置的多组第一对象组，以及沿第二方向并排设置的多组第二对象组；所述第一对象组包括沿第二方向并排设置的多个目标对象；所述第二对象组包括沿所述第一方向并排设置的多个目标对象；所述预设样板包括多个测试区域，且一个所述测试区域中的目标对象由曝光设备一次曝光得到，不同所述测试区域中的所述目标对象由所述曝光设备不同次曝光得到；根据所述目标图像，确定各所述目标对象所对应的像素位置信息；基于各所述目标对象的像素位置信息，判断所述目标对象的曝光状态为正常或离焦，并根据判断结果和预先存储的各所述第一对象组所对应的曝光高度，确定不同所述测试区域分别对应的预测焦平面高度；基于各所述预测焦平面高度，确定所述曝光设备的最佳焦平面的校准信息。
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 焦平面校准方法、装置、计算机设备和存储介质
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