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申请/专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日：2024-05-28
公开（公告）日：2025-01-24
公开（公告）号：CN119356034A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种减振装置、工件台系统及光刻机设备；减振装置包括内部框架、减振器、外部框架、平衡质量块和底部框架；内部框架上用于设置掩模台、物镜单元和工件台平台，工件台平台支撑工件台微动部分；减振器上设置内部框架；外部框架上设置减振器，还用于设置照明单元，且外部框架用于设置于地基上；底部框架用于设置于地基上；底部框架上设置平衡质量块；平衡质量块上用于设置工件台粗动部分。如此配置，可提高光刻机减振架构的动态稳定性，并降低减振器的承载要求，降低减振器的设计难度和成本。
专利权项：1.一种减振装置，其特征在于，包括：内部框架、减振器、外部框架、平衡质量块和底部框架；所述内部框架上用于设置光刻机设备的掩模台、物镜单元和工件台平台，所述工件台平台支撑光刻机设备的工件台微动部分；所述减振器上设置所述内部框架；所述外部框架上设置所述减振器，还用于设置光刻机设备的照明单元，且所述外部框架用于设置于地基上；所述底部框架用于设置于地基上；所述底部框架上设置所述平衡质量块；所述平衡质量块上用于设置光刻机设备的工件台粗动部分。
百度查询： 上海微电子装备(集团)股份有限公司 减振装置、工件台系统及光刻机设备
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